半導體器件生產中硅片須經嚴格清洗。微量污染也會導致器件失效。 清洗的目的在于清除表面污染雜質，包括有機物和無機物。這些雜質有的以原子狀態或離子狀態，有的以薄膜形式或顆粒形式存在于硅片表面。會導致各種缺陷。因此選擇一款清洗效果好的清洗劑十分重要。

沈陽博美特環?？萍加邢薰就瞥鲆豢頗B2000-715單晶硅片清洗劑，適用于清洗硅片切割懸浮液、硅片碾磨液、動物油、植物油、礦物油等污垢，對硅片表層污垢具有較好乳化、分散及洗凈作用,且使硅片使用壽命長，適合切片后硅片清洗、硅片研磨后清洗。